実験設備（成膜装置）

有機金属気相成長装置（As系およびP系）

• 日本酸素製 HR-455M
• 研究テーマ
  • 「希土類添加半導体の作製と物性評価」
  • 「III-V族半導体量子構造の原子レベル制御成長」

有機金属気相成長装置（GaN系）

• 大陽日酸製SR2000
• 研究テーマ
  • 「希土類添加窒化物半導体の作製と物性評価」

リモート式プラズマＣＶＤ装置（独自開発）

• 研究テーマ
  • 「機能性透明酸化物薄膜の作製と物性評価」

実験設備（プロセス・評価装置）

ICP-RIE装置

• Cl2によるGaNのドライエッチング

スパッタ装置

• SiO2,ITO膜の成膜

フォトリソグラフィ装置

• マスクアライナーMA-20型

フォトルミネッセンス測定装置

• Ar+ レーザー
• SPEX1702/04分光器
• Ge PINディテクター
• 可視光領域光電子増倍管
• 30cm分光器+CCDカメラ
• フォトンカウンティング
• Liq-He用クライオスタット
• 10K冷凍機
• 50cm分光器+CCDアレイ+PMT
• He-Cdレーザ
• 色素レーザ

ホール効果測定・電気特性評価測定装置

• Hall効果測定装置

• 電気特性評価装置